1. 什么是溅射靶材?
溅射靶材是一种用于物理气相沉积(PVD)工艺的高纯度材料,通过离子轰击将其表面原子溅射到基材上形成薄膜。
2. 溅射靶材的主要用途是什么?
主要用于半导体、显示面板、太阳能电池、光学镀膜等领域,用于制备功能性薄膜材料。
3. 检测溅射靶材的主要目的是什么?
确保靶材的纯度、密度、晶粒尺寸等参数符合工艺要求,保证薄膜沉积的质量和性能。
4. 溅射靶材检测包含哪些主要内容?
包括成分分析、物理性能测试、微观结构观察、机械性能评估等多个方面。
5. 检测周期一般需要多长时间?
根据检测项目数量不同,通常需要3-7个工作日,复杂检测可能需要更长时间。
检测优势
1、单位面向科研院所、学校和社会企业及科研单位,面向社会公共服务。
2、实验管理中心下设检测分析中心、科研测试中心、X射线应用中心。
3、面向物理、化学化工、材料、纳米、环境、电子、能源等众多学科。
4、拥有多台精密检测仪器设备。
5、能够从事材料微观结构分析、定性和定量分析、材料性能测定、材料质量综合评定等工作。
6、提供24小时开放服务、网络化的管理。
7、具备向校内外科学研究和品质鉴定提供公正、科研测试数据能力的重要机构。