标准编号:GB/T 41153-2021
标准名称:碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定 二次离子质谱法
英文名称:Determination of boron,aluminum and nitrogen impurity content in silicon carbide single crystal—Secondary ion mass spectrometry
发布部门:国家市场监督管理总局 国家标准化管理委员会
起草单位:中国电子科技集团公司第四十六研究所、有色金属技术经济研究院有限责任公司、山东天岳先进科技股份有限公司
标准状态:现行
发布日期:2021-12-31
实施日期:2022-07-01
标准格式:PDF
本文件规定了碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的二次离子质谱测试方法。
本文件适用于碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的定量分析,测定范围为硼含量不小于5×10ˇ13 cmˇ-3、铝含量不小于5×10ˇ13 cmˇ-3、氮含量不小于5×10ˇ15 cmˇ-3,元素浓度(原子个数百分比)不大于1%。
1、单位面向科研院所、学校和社会企业及科研单位,面向社会公共服务。
2、实验管理中心下设检测分析中心、科研测试中心、X射线应用中心。
3、面向物理、化学化工、材料、纳米、环境、电子、能源等众多学科。
4、拥有多台精密检测仪器设备。
5、能够从事材料微观结构分析、定性和定量分析、材料性能测定、材料质量综合评定等工作。
6、提供24小时开放服务、网络化的管理。
7、具备向校内外科学研究和品质鉴定提供公正、科研测试数据能力的重要机构。