行业标准《磁记录用铬钽钛合金溅射靶材》,主管部门为工业和信息化部。本标准适用于6英寸~8英寸垂直磁记录硬盘、磁盘用铬钽钛合金靶材。
行业标准《磁记录用铁钴钽合金溅射靶材》,主管部门为工业和信息化部。本标准适用于6英寸~8英寸垂直磁记录硬盘、磁盘用铁钴钽合金靶材。
行业标准《电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材》由全国有色金属标准化技术委员会归口上报,主管部门为工业和信息化部。本标准适用于电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材,以下简称高纯钨及钨合金靶。
行业标准《电子薄膜用高纯钛溅射靶材》由全国有色金属标准化技术委员会归口上报,主管部门为工业和信息化部。
行业标准《电子薄膜用高纯铜溅射靶材》由全国有色金属标准化中心归口上报,主管部门为工业和信息化部。
行业标准《溅射靶材-背板结合质量超声波检验方法》由全国有色金属标准化中心归口上报,主管部门为工业和信息化部。
行业标准《平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶》由全国有色金属标准化技术委员会归口上报,主管部门为工业和信息化部。
行业标准《平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶》由全国有色金属标准化技术委员会归口上报,主管部门为工业和信息化部。
本标准规定了氧化锌铝磁控溅射靶材的术语和定义、基本要求、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存、质量承诺等。本标准适用于粉末冶金生产的用于磁控溅射沉积节能Low-E玻璃的功能介质层以及薄膜太阳能电池透明电极层等膜层的氧化锌铝磁控溅射靶材。
国家标准《电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材》由TC243(全国有色金属标准化技术委员会)归口上报,TC243SC1(全国有色金属标准化技术委员会轻金属分会)执行,主管部门为中国有色金属工业协会。
1、单位面向科研院所、学校和社会企业及科研单位,面向社会公共服务。
2、实验管理中心下设检测分析中心、科研测试中心、X射线应用中心。
3、面向物理、化学化工、材料、纳米、环境、电子、能源等众多学科。
4、拥有多台精密检测仪器设备。
5、能够从事材料微观结构分析、定性和定量分析、材料性能测定、材料质量综合评定等工作。
6、提供24小时开放服务、网络化的管理。
7、具备向校内外科学研究和品质鉴定提供公正、科研测试数据能力的重要机构。