溅射靶材检测

行业标准《磁记录用铬钽钛合金溅射靶材》，主管部门为工业和信息化部。本标准适用于6英寸～8英寸垂直磁记录硬盘、磁盘用铬钽钛合金靶材。

行业标准《磁记录用铁钴钽合金溅射靶材》，主管部门为工业和信息化部。本标准适用于6英寸～8英寸垂直磁记录硬盘、磁盘用铁钴钽合金靶材。

行业标准《电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材》由全国有色金属标准化技术委员会归口上报，主管部门为工业和信息化部。本标准适用于电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材，以下简称高纯钨及钨合金靶。

行业标准《电子薄膜用高纯钛溅射靶材》由全国有色金属标准化技术委员会归口上报，主管部门为工业和信息化部。

行业标准《电子薄膜用高纯铜溅射靶材》由全国有色金属标准化中心归口上报，主管部门为工业和信息化部。

行业标准《溅射靶材-背板结合质量超声波检验方法》由全国有色金属标准化中心归口上报，主管部门为工业和信息化部。

行业标准《平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶》由全国有色金属标准化技术委员会归口上报，主管部门为工业和信息化部。

行业标准《平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶》由全国有色金属标准化技术委员会归口上报，主管部门为工业和信息化部。

本标准规定了氧化锌铝磁控溅射靶材的术语和定义、基本要求、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存、质量承诺等。本标准适用于粉末冶金生产的用于磁控溅射沉积节能Low-E玻璃的功能介质层以及薄膜太阳能电池透明电极层等膜层的氧化锌铝磁控溅射靶材。

国家标准《电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材》由TC243（全国有色金属标准化技术委员会）归口上报，TC243SC1（全国有色金属标准化技术委员会轻金属分会）执行，主管部门为中国有色金属工业协会。