问:什么是金属溅射靶材?
答:金属溅射靶材是一种用于物理气相沉积(PVD)工艺的高纯度材料,通过离子轰击使其表面原子溅射并沉积在基片上,形成薄膜。
问:金属溅射靶材的主要用途是什么?
答:广泛应用于半导体、显示面板、太阳能电池、光学镀膜等领域,用于制备功能性或装饰性薄膜。
问:金属溅射靶材检测的主要内容有哪些?
答:检测主要包括成分分析、纯度测定、密度测试、晶粒尺寸分析、表面粗糙度、机械性能及微观结构表征等。
检测优势
1、单位面向科研院所、学校和社会企业及科研单位,面向社会公共服务。
2、实验管理中心下设检测分析中心、科研测试中心、X射线应用中心。
3、面向物理、化学化工、材料、纳米、环境、电子、能源等众多学科。
4、拥有多台精密检测仪器设备。
5、能够从事材料微观结构分析、定性和定量分析、材料性能测定、材料质量综合评定等工作。
6、提供24小时开放服务、网络化的管理。
7、具备向校内外科学研究和品质鉴定提供公正、科研测试数据能力的重要机构。